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| 所属区域： | 浙江 | 加入时间： | |
| 项目性质： | 新建 | 进展阶段： | 施工准备 |
| 投资金额： | 1.5亿元 | 资金来源： | |
| 业主单位： | 矽力杰半导体技术(杭州)有限公司 | 设计/建设单位： | / |
一项商业发展,占地面积为19,998平方米,总建筑面积约为95,500平方米,包括: *两幢22层至24层高的办公楼 *四层高的裙房,包括商业,会议中心,食堂,实验室和测试车间 *两层高的地下停车场,提供约600个停车位
2016-10-20版本2? 主体施工?截止到2016年10月中旬项目正在进行主体施工建设, 预计2018年1月完工
2015-05-21版本1? 设计?截止到2015年5月下旬,项目处于方案深化设计阶段,方案完成时间尚未确定。
工程阶段， 勘察设计
工程类别， 商业综合
开工时间， 2016年12月
竣工时间， 2018年03月
建筑面积， 95500.0平方米
工程金额， 15000万元
企业性质：股份制 申报方式：备案制
| 业主方(矽力杰半导体技术(杭州)有限公司)联系方式 | ||||
| 电话 | 0571-88258635 | 传真 | ||
| 详细地址 | 杭州市西湖区华星路99号 | |||
